Zeta電位分析儀是評估膠體體系穩(wěn)定性的核心工具,通過測量顆粒表面電荷分布(Zeta電位)指導(dǎo)納米材料、制藥、食品等領(lǐng)域的配方優(yōu)化與質(zhì)控。本文以典型電泳光散射(ELS)型儀器為例,系統(tǒng)闡述其使用方法,涵蓋操作流程、關(guān)鍵參數(shù)設(shè)置及維護(hù)要點(diǎn)。
一、操作前準(zhǔn)備:環(huán)境與樣品要求
1. 環(huán)境條件
溫度:實(shí)驗(yàn)室溫度需控制在儀器規(guī)定范圍內(nèi)(通常5-40℃),避免溫度波動(dòng)影響電導(dǎo)率測量。
濕度:相對濕度建議低于80%,防止樣品池或光學(xué)部件受潮。
防震:儀器需放置在穩(wěn)固實(shí)驗(yàn)臺,避免振動(dòng)干擾激光散射信號。
2. 樣品準(zhǔn)備
稀釋與過濾:高濃度樣品需稀釋至適宜范圍(如膠體顆粒濃度0.01-1% w/v),避免多重散射干擾;渾濁樣品需通過0.22μm濾膜過濾。
pH調(diào)節(jié):若需研究pH對Zeta電位的影響,需使用緩沖液(如磷酸鹽緩沖液)控制pH值,避免直接添加酸堿導(dǎo)致局部濃度不均。
脫氣處理:含氣泡樣品(如蛋白質(zhì)溶液)需超聲脫氣5-10分鐘,防止氣泡干擾電場分布。
二、操作步驟:從開機(jī)到數(shù)據(jù)分析
步驟1:儀器初始化與校準(zhǔn)
開機(jī)自檢:接通電源后,儀器自動(dòng)檢測激光源、光電探測器及電場模塊,確認(rèn)無報(bào)錯(cuò)提示(如“Laser Error”或“Field Stability Fault”)。
電場校準(zhǔn):使用標(biāo)準(zhǔn)溶液(如1mM KCl溶液,已知電導(dǎo)率)進(jìn)行電場強(qiáng)度校準(zhǔn),確保實(shí)際電場與設(shè)定值偏差<2%。
光路校準(zhǔn):運(yùn)行“Optical Alignment”程序,調(diào)整激光束與檢測器位置,使散射光強(qiáng)達(dá)到最大值。
步驟2:樣品裝載與參數(shù)設(shè)置
選擇樣品池:根據(jù)樣品類型選擇適配池:
常規(guī)水溶液:折疊式毛細(xì)管池(Folded Capillary Cell)。
有機(jī)溶劑:U型石英池(需配備防揮發(fā)蓋)。
在線監(jiān)測:流通池(Flow Cell),連接蠕動(dòng)泵實(shí)現(xiàn)連續(xù)進(jìn)樣。
裝載樣品:使用移液器緩慢注入樣品至池體2/3高度,避免產(chǎn)生氣泡;有機(jī)溶劑樣品需提前浸潤池壁30秒。
參數(shù)設(shè)置:
電場強(qiáng)度:根據(jù)樣品電導(dǎo)率調(diào)整(低電導(dǎo)率樣品用高場強(qiáng),反之降低場強(qiáng))。
溫度:設(shè)定測量溫度(如25℃),儀器自動(dòng)啟動(dòng)Peltier溫控系統(tǒng)。
測量次數(shù):建議重復(fù)3-5次取平均值,提升數(shù)據(jù)可靠性。
步驟3:數(shù)據(jù)采集與處理
啟動(dòng)測量:點(diǎn)擊“Start”按鈕,儀器施加電場并記錄散射光頻率變化,通過多普勒頻移計(jì)算電泳速率。
實(shí)時(shí)監(jiān)測:觀察電泳曲線是否穩(wěn)定,若出現(xiàn)波動(dòng)(如曲線抖動(dòng)>5%),需檢查樣品均勻性或電場穩(wěn)定性。
數(shù)據(jù)分析:
Zeta電位計(jì)算:軟件自動(dòng)根據(jù)Smoluchowski模型(高電導(dǎo)率溶液)或Hückel模型(低電導(dǎo)率溶液)轉(zhuǎn)換電泳速率為Zeta電位值。
分布統(tǒng)計(jì):生成Zeta電位分布圖,評估樣品均一性(如多峰分布提示顆粒聚集或表面改性不均)。
報(bào)告導(dǎo)出:支持PDF、CSV格式輸出,包含測量條件、原始數(shù)據(jù)及統(tǒng)計(jì)結(jié)果。
三、關(guān)鍵注意事項(xiàng):規(guī)避常見誤差
1. 電場穩(wěn)定性控制
高電導(dǎo)率溶液(如鹽水):電場強(qiáng)度需≤100V/cm,避免焦耳熱導(dǎo)致局部溫度升高,影響電泳速率測量。
低電導(dǎo)率溶液(如有機(jī)溶劑):需使用鉑電極并定期清潔,防止電極極化產(chǎn)生氣泡。
2. 樣品均勻性保障
磁力攪拌:測量前對樣品進(jìn)行磁力攪拌(轉(zhuǎn)速200-500rpm)5分鐘,確保顆粒分散均勻。
避免沉降:高密度顆粒樣品(如金屬氧化物)需在測量前超聲處理1分鐘,防止沉降導(dǎo)致數(shù)據(jù)偏差。
3. 光學(xué)干擾排除
環(huán)境光屏蔽:關(guān)閉實(shí)驗(yàn)室燈光,使用儀器自帶遮光罩,避免雜散光進(jìn)入檢測器。
樣品池清潔:每次測量后用超純水沖洗樣品池,異丙醇擦拭光學(xué)窗口,防止殘留樣品干擾后續(xù)測量。
四、典型問題與解決方案
問題1:Zeta電位值重復(fù)性差
可能原因:樣品沉降、電場波動(dòng)、溫度不穩(wěn)定。
解決方案:增加攪拌時(shí)間、降低電場強(qiáng)度、檢查溫控模塊。
問題2:散射光信號弱
可能原因:樣品濃度過低、激光衰減、光路偏移。
解決方案:提高樣品濃度、更換激光燈(壽命通常20000小時(shí))、重新進(jìn)行光路校準(zhǔn)。
問題3:電場無法施加
可能原因:電極接觸不良、樣品電導(dǎo)率超出范圍。
解決方案:檢查電極連接、稀釋樣品或更換高電導(dǎo)率專用電極。
五、維護(hù)與保養(yǎng):延長儀器壽命
1. 日常清潔
光學(xué)部件:每周用無塵布蘸取異丙醇擦拭激光窗口與檢測器透鏡。
樣品池:每次使用后立即清洗,避免樣品結(jié)晶堵塞池體。
2. 定期校準(zhǔn)
電場校準(zhǔn):每月使用標(biāo)準(zhǔn)溶液驗(yàn)證電場強(qiáng)度準(zhǔn)確性。
溫度校準(zhǔn):每季度用高精度溫度計(jì)校準(zhǔn)Peltier模塊。
3. 耗材更換
激光燈:當(dāng)散射光強(qiáng)下降至初始值的70%時(shí),需更換激光源。
電極:鉑電極表面出現(xiàn)氧化層時(shí),用細(xì)砂紙打磨或更換新電極。
結(jié)語
Zeta電位分析儀的精準(zhǔn)測量依賴于規(guī)范的操作流程與細(xì)致的環(huán)境控制。通過嚴(yán)格遵循樣品準(zhǔn)備、參數(shù)設(shè)置、數(shù)據(jù)采集及維護(hù)保養(yǎng)步驟,可有效規(guī)避誤差來源,獲得可靠的Zeta電位數(shù)據(jù)。隨著儀器自動(dòng)化程度的提升(如一鍵式校準(zhǔn)、AI輔助分析),其操作門檻正逐步降低,但理解核心原理與關(guān)鍵注意事項(xiàng)仍是保障數(shù)據(jù)質(zhì)量的基礎(chǔ)。